不同的基底真空度对薄膜的影响成相会有什么影响

KURA: 表皮と真皮の相互作用に関する研究 : 特に基底膜の形成について
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タイトル:&表皮と真皮の相互作用に関する研究 : 特に基底膜の形成について
発行日:&1977年 6月
出版社(者):&金沢大学十全医学会
雑誌名:&金沢大学十全医学会雑誌
開始ページ:&286
終了ページ:&303
資料種別:&Departmental Bulletin Paper
版表示:&publisher
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ta及ta-o薄膜的制备及其电学性能研究
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3秒自动关闭窗口凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
Mg/B多层膜退火法中不同制备条件对MgB2超导薄膜性质的影响
刘亮1, 马小柏1, 聂瑞娟1, 王福仁1, 姚丹2
(1)北京大学物理学院,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京
100871; (2)空军航空大学,长春
Properties of MgB2 films fabricated under different conditions by ex-situ annealing of Mg/B multilayer precursor
Liu Liang1, Ma Xiao-Bai1, Nie Rui-Juan1, Wang Fu-Ren1, Yao Dan2
(1)北京大学物理学院,人工微结构和介观物理国家重点实验室,北京
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没有本文参考文献
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网络系统维护电话:010-; 技术支持邮箱 .cn不同基底对TiO_2和SiO_2薄膜的光学性能的影响--《无机化学学报》2015年07期
不同基底对TiO_2和SiO_2薄膜的光学性能的影响
【摘要】:采用溶胶-凝胶法分别在K9玻璃、单晶硅和石英玻璃基底上制备了纳米TiO2和SiO2薄膜。利用SEM、UV-Vis及反射式椭圆偏振光谱仪对薄膜的微观结构及光学特性进行了表征和分析。结果表明:3种基底中,单晶硅基底上TiO2和SiO2薄膜折射率最大;在非晶态K9玻璃和石英玻璃基底上TiO2薄膜折射率和透光率差异较大;SiO2薄膜在非晶态基底上折射率、透光率相近;3种基底上薄膜的折射率和消光系数都有随波长增大而减小的趋势,同时Cauchy模型能较好的描述单晶硅基底上两种薄膜在400~800 nm波段的光学性能。
【作者单位】:
【关键词】:
【基金】:
【分类号】:O484.41【正文快照】:
0引言采用溶胶-凝胶工艺制备的Ti O2薄膜具有折射率可调,膜层牢固稳定,在可见和近红外区透明,激光损伤阈值高[1-3]等优点。而制备的Si O2薄膜具有硬度高、耐磨性好、膜层牢固,且具有光透过率高、散射吸收小、透明区一直延伸到紫外区等良好的光学性能。另外两者具有较大的折射
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京公网安备75号不同基底温度对Ti薄膜表面形貌及残余应力的影响(英文)--《稀有金属材料与工程》2016年04期
不同基底温度对Ti薄膜表面形貌及残余应力的影响(英文)
【摘要】:采用纳米压痕法中的Suresh模型和Lee模型研究不同基底温度对直流磁控溅射制备的Ti薄膜中残余应力大小及分布的影响。将压痕法计算结果与曲率法结果进行比较研究,同时采用原子力显微镜和X射线衍射仪对Ti薄膜的表面形貌及相结构进行分析。结果表明:Suresh模型计算得到的Ti薄膜残余应力值与曲率法结果最为接近,因此Suresh模型更适合测量Ti薄膜中的残余应力。结合纳米压痕和显微结构的分析发现,随着Ti薄膜基底温度的升高,Ti薄膜的晶粒尺寸先增大后变小,残余应力则从压应力转变为拉应力。
【作者单位】:
【关键词】:
【基金】:
【分类号】:TB383.2【正文快照】:
With the development of optoelectronic technology,theapplications of thin films to optics and electronic devicesare found everywhere.However,residual stress exists inalmost all films,due to the lattice mismatch or differentthermal expansion coefficients
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